珀耳帖式化学液温控器 HED是 SMC 针对化工、半导体湿法工艺研发的珀耳帖式化学液专用温控设备，采用半导体热电调温技术，无压缩机、无氟冷媒，不受 F-Gas 法规管控，适配各类腐蚀性工艺药液恒温管控，广泛用于晶圆清洗、蚀刻工艺、实验室化学合成、微量试剂恒温反应等工况，是腐蚀介质专用轻量化恒温解决方案。

Name: 珀耳帖式化学液温控器 HED
Brand: SMC/日本
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-07-28

厂商性质：代理商

访问量：11

产品咨询 15800470089

产品分类Product Categories

相关文章Related Articles

详细介绍在线留言

珀耳帖式化学液温控器 HED

●使用珀耳帖元件、实现化学液的直接温控
●氟素树脂热交换器可应对多种化学液
●符合CE、UL规格

珀耳帖式化学液温控器 HED是 SMC 针对化工、半导体湿法工艺研发的珀耳帖式化学液专用温控设备，采用半导体热电调温技术，无压缩机、无氟冷媒，不受 F-Gas 法规管控，适配各类腐蚀性工艺药液恒温管控，广泛用于晶圆清洗、蚀刻工艺、实验室化学合成、微量试剂恒温反应等工况，是腐蚀介质专用轻量化恒温解决方案。

设备依靠珀耳帖热电元件实现制冷、加热双向调节，不存在压缩机启停引发的温度震荡。温控区间覆盖 10℃至 60℃，搭载化学液专用 PID 智能调控程序，控温精度可达 ±0.1℃，可快速抵消化学反应放热、环境温度波动造成的药液温差，稳定工艺温度，避免因温度偏差导致蚀刻速率不均、化学实验数据失真等问题。

整机接触化学药液的管路、槽体全部采用耐腐蚀氟树脂、高纯 PP 材质，耐酸碱、有机溶剂腐蚀，不会析出金属离子污染晶圆与化学试剂，区别于常规水冷温控设备。内部配置专用耐腐蚀循环泵与精密过滤组件，可过滤药液内微小杂质，防止管路堵塞，保障药液循环洁净稳定。

设备采用一体式风冷结构，无需外接冷却水，安装布局灵活，可直接搭配湿法清洗设备、实验反应釜配套使用。整机无压缩机机械震动，搭配低噪音散热风机，运行平稳安静，不会干扰高精度半导体工艺与微量化学实验。

机身搭载数字操作面板，可实时显示化学液温度、循环流量、设备故障代码，温度上下限、超温报警阈值可快速设定。设备内置完整安全防护机制，包含药液低液位保护、热电模块过热保护、超温停机、耐腐蚀泵过载保护等功能，出现漏液、超温、断流等异常时自动停机告警，保护工艺设备与试样安全。

设备结构紧凑，耐腐蚀滤芯、密封配件拆装简易，日常仅需定期更换过滤耗材、清洗循环管路，运维成本低廉，可支持工艺产线 24 小时不间断连续运行。

HED 凭借耐腐蚀化学液适配、无氟环保热电调温、高精度恒温、低震静音风冷运行的核心优势，为半导体湿法工艺、化工实验室腐蚀药液温控提供安全稳定、合规耐用的标准化解决方案。

上一个：珀耳帖式温调恒温槽 INR

返回列表

下一个：温控器 INR-494-009

在线留言

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：